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满卫东

时间:2013-08-04 11:53来源:未知 作者:admin 点击:
       名: 满卫东
学历学位:研究生博士
专业技术职务: 教授
是否博导:否
主要研究方向: 低温等离子体技术与薄膜材料
基本情况:(学习经历、工作经历、社会兼职、学术影响、主讲研究生课程情况、有影响的学术观点)男,出生于1970年11月,1992年毕业于合肥工业大学化工系,获学士学位;2002年2月毕业于武汉化工学院获硕士学位;2006年7月毕业于中国科学院等离子体物理研究所获博士学位。主要从事CVD金刚石膜的制备与加工,微波能产业化应用研究、微波等离子体工业应用,功能薄膜PVD,CVD设备与工艺的研发,材料表面涂覆与表面改性等方面的研究工作;目前的研究主要集中在单晶钻石外延产业化生产的研究,大功率微波CVD金刚石膜沉积设备的研发等方面。对获取国外先进的专业技术信息颇有研究。先后主持和参与国家、省自然科学基金等纵横向科研项目10余项。作为第一作者或通讯作者在国内外核心刊物上发表研究论文30余篇,其中被三大检索收录20余篇。获国家发明专利1项。

主要研究成果:(五年来具有代表性的研究课题、具有代表性的论文情况、出版教材、专著情况、获奖情况、为社会服务情况等等)
一、主持的主要教学、科研项目
(1)等离子体辅助固体接触法图形化CVD金刚石膜的研究(Q20081505),2008-2010,湖北省教育厅科研计划项目
(2)废水处理用高比表面导电金刚石膜电极的制备研究(2008CDB255),2008-2010,湖北省自然科学基金
(3)声表面波用金刚石/硅基底的研制,2009-2011,郑州大学
(4)适应低碳经济发展模式的材料物理专业培养方式的探索(2010235),2011-2012,湖北省教育厅重点教研项目
   
二、发表的主要论文
[1] Man Weidong, Weng Jun, et al., A Novel Method of Fabricating Large –crystal, well-facet Diamond through MPCVD, Plasma Science and Technology, 2009, 11(6):688-692
[2] 满卫东,翁俊,等,MPCVD法在基片边缘生长大颗粒金刚石的研究,人工晶体学报,2011,40(1):53-59
[3] 满卫东,谢鹏,等,微波等离子体同质外延修复金刚石的研究,人工晶体学报,2008, 37(5):1157-1161.
[4] 满卫东,孙蕾,等,CVD金刚石膜表面图形化加工技术的研究,微细加工技术,2008,101(3):25-29
[5] Man Weidong, Wang Jianhua, et al., Planarizing CVD diamond Films by using hydrogen plasma etching enhanced carbon diffusion process, Diamond and Related Materials, 2007, 6(8):1455-1458

三、授权发明专利:

1. 一种金刚石表面图形化方法,CN200710053016[1].9,发明人:满卫东,汪建华

研究生培养情况:现有在读研究生4名,已指导毕业研究生3名。
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